| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2016년 봄 (04/27 ~ 04/29, 부산 BEXCO) |
| 권호 | 22권 1호, p.169 |
| 발표분야 | 공정시스템 |
| 제목 | Fabrication of 2D Tungsten Photonic Crystal Using Laser Interference Lithography |
| 초록 | 본 연구에서는 Laser Interference Lithography(LIL)를 이용하여 2차원 텅스텐 광결정 구조를 제작하였다. LIL 방법은 조사하는 Laser의 세기 및 노출시간, 그리고 develop 시간 등을 조절하여 나노패턴의 크기조절이 넓은 범위에서 가능하고, 단시간에 넓은 면적에서 나노구조를 형성할 수 있는 장점으로 인해 많은 연구에 활용되고 있다. 제작은 다음과 같은 과정으로 진행하였다. 먼저 텅스텐 기판 위에 electron-beam evaporation을 이용하여 hard mask로 활용될 Cr을 증착하였다. Cr 층 위에 감광성 고분자를 코팅하고 LIL을 통해 원하는 나노구조를 제작한 후, 노출된 Cr 층을 etching하였다. 마지막으로 Reactive Ion Etching (RIE)법을 이용하여 1.5μm의 깊이를 갖는 텅스텐 광결정 구조를 제작하였다. 제작된 텅스텐 광결정 구조는 근적외선 영역에서 선택적 파장 방사 특성을 나타내었으며, 패턴의 사이즈에 따라 광학적 특성이 변화함을 확인하였다. 실험적으로 측정된 2차원 텅스텐 광결정의 광학적 특성은 시뮬레이션을 통해 예상된 결과와 유사함을 확인할 수 있었다. |
| 저자 | 김종무 1 , 김다솜 2 , 진형환 1 , 주병권 3 , 김선경 2 , 박금환 1 , 김영석 1 |
| 소속 | 1 전자부품(연), 2 경희대, 3 고려대 |
| 키워드 | 공정최적화 ; 공정제어 ; 공정 강화 ; 공정 이론 |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
