한국화학공학회 2006년 가을학술대회 CVD/ALD process monitoring system (2)(The evaluation of a precursor using FT-IR spectroscopy, thermal analysis, and the deposition chamber) 강상우 1 , 윤주영 1 , 성대진 1 , 신용현 1 , 이시우 2 , 송문균 2 ( 1 한국표준과학(연), 2 포항공과대) 목록보기 목록보기