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2005.04.18

08F 中小・ベンチャー企業の知的財産戦略の推進方策（とりまとめ）（１）

テーマ：ビジネス・起業に関すること。(20403)

カテゴリ： 01 特許ゲーム

こんちくは。

「中小・ベンチャー企業の知的財産戦略の推進方策（とりまとめ）（案）」が２００５年４月１４日発表された。

２００５年４月１４日の日経新聞夕刊の一面（見出しは「中小の特許費用軽減」）に掲載されていたが、それのもと情報。

将来を知る上で、重要な情報。ひっかかること。

１．「特許制度の改善」として、法改正を検討している事項は以下のものがある。

（１）米国のような一部継続出願制度の導入
（２）国内優先制度の優先期間（現行１年）の延長
（３）外国語書面出願の翻訳文提出期間（現行２ヶ月）の延長
（４）インターネットを通じた特許審査の手続書類等の閲覧の無料化

（６）拒絶理由通知の応答期間（現行６０日）の延長

２．「特許電子図書館（ＩＰＤＬ）の機能強化」として、以下のものがある。

（１）関連外国出願や審査で用いた先行技術情報などを検索できる機能を追加する
（２）特許公報等のＰＤＦファイルを一括ダウンロードできるようにする
　　　　　　↑
　　　いまは、１ページづつでたいへん使いにくい。わざと使いにくくしているとしか思えない。

３．気になる「知財駆け込み寺」の項目では、これまた気になることが書いてあった。

大企業が優越的地位を濫用し、例えば中小企業の製造能力を超えるロットを一時に大量発注して対応できないという理由で事実上その技術を取り上げるとか、
共同研究や試作品作成を持ちかけて技術を横取りすることを可能とするような一方的に優位な契約を締結するなど、
巧妙な手口により中小・ベンチャー企業の技術が模倣されたり、盗用されたりしているという指摘が多い。

伝聞の文章ではあるが、事実としてあるのでしょう。

少なくとも、相手に技術を提示する前に、特許出願をしておくべきです。
そして、開示してもよい情報と絶対に開示しないノウハウとを分けて、秘密保持契約を結んでいたとしても、自社のノウハウは開示しないことです。
　→　２００５年４月１２日のブログ参照。

キーワード　特許、法改正、ＩＰＤＬ、特許電子図書館、知財駆け込み寺

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