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2007/02/18

東北大学多元物質科学研究所の斉藤文良教授という研究者が、次世代半導体の材料として注目されている窒化ガリウムのひずみの少ない結晶を製造する技術を開発した、というニュースが出ていました( こちら
500度1500気圧の圧力容器内で液体となっているアンモニア中で窒化ガリウムの結晶を成長させるのだそうです。
これだけだと何のことかわかりませんが、窒化ガリウム結晶は、最近、信号の青色表示に使われ出した青色レーザーの材料です。
半導体レーザーは、電球よりも省エネであってなおかつ長寿命であり、信号には最適ですね。

窒化ガリウムの結晶を製造することは、長らく世界中で困難と思われていて、青色レーザーの材料としては捨てられていた存在でした。
誰も見向きもしない窒化ガリウムに着目したのが、日亜化学という会社の社員だった中村修二さん。
中村さんは、材料となるアンモニアとガリウム化合物のガスをサファイア基板上に２カ所から吹き付けることによって結晶成長させる技術を確立し、これによってやっと青色半導体レーザーが製造可能になったのです。
この窒化ガリウムの結晶成長法をめぐっては、会社の中止命令を無視して開発に当たった中村さんと、それにもかかわらず青色レーザーでボロ儲けをした日亜化学の間で特許紛争がありました。

現時点では既に中村さんが開発した方法以外でも窒化ガリウム結晶を製造できるようですが、今回の東北大学の研究成果で、さらに高品質の結晶が製造可能になりそうです。
青色レーザーは、日本が世界に誇る大切な技術ですが、残念ながら、こうした重要技術の価値を理解できる日本人がほとんどいないために、積極的に技術的挑戦を行う優れた技術者をどんどん米国に取られてしまうのが本当に残念です。
今回の研究成果も日本は大切に育てることができるでしょうか？

私は、大学は物理学科でしたが、物性論の講義は興味もなくほとんど出席せず、試験前日に友人のノートを借りて一夜漬けで勉強、でも、何と、ノートを貸してくれた友人は赤点で私はセーフ！なんて自慢にはなりませんが、中村さん物性をよく勉強していたのでしょうね。
私も、もっと勉強しておけばよかった。

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