2008年06月の記事
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夜は真っ暗だ！
星はちょっと見えましたが。ここは秋田の南部の南由利原高原です。今晩はペンションに泊まっています。友達のＫさんに家へ来ないかと誘われました。近道で10分ちょっと、道路だと20分あまりです。気軽に、夕食後に行こうと思ったら、ペンションのＦさんが駄目と言うのです。私があるくところは、どちらも熊の道なのだそうです。そして、街灯もないのでした。結局、Ｆさんに自動車で送ってもらいました。真っ暗でした。ついこの間、埼玉の我が家のそばで、夜、女房が散歩するというのでついていったら、思ったより明るいのでびっくりしたところでした。やはり、秋田にはまだ自然がたっぷり残っています。つづく
2008年06月30日
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7月1日の日記
今日はついに秋田を離れました。 途中、酒田(山形)で一時間以上も待ち時間がありました。 そのとき、病気の叔父にメロンを送ってからお弁当を買いました。 「ががちゃおこわ」というものでした。 これは、だだちゃ豆(こちら鶴岡の枝豆)のおこわでした。ががちゃ(お母さん)が子供の幸せを願い、だだちゃ(お父さん)が丹精込めた枝豆を入れて炊いたおこわだそうです。赤かぶ漬けが添えてありました。 お祝いごとがあるときに作るものだとのことです。 んめえ!
2008年06月29日
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今夜は秋田に泊まり
夕方、元本荘にいた友達夫婦に会い、一緒に食事をしてから、夜は二人の家に泊めてもらうことになっています。早めに秋田へ行き、市民市場へ寄ってきました。数年前、本荘にいたときには、ここへよく来て、山菜をはじめとする秋田の食べ物のことをいろいろと教えてもらったのでした。そして、一軒の八百屋さんとはまだ知り合いです。つづく
2008年06月28日
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午前中は散歩するつもりでしたが・・・
午後は秋田へ行くので、午前中、この前散歩した道を覚えようかと思って、まず本荘公園へ行きました。本丸体験学習施設と称する「修身館」（本荘の歴史に関する展示がある）へ寄ったら、「指導員」の人がまた変わっていました。ここは由利本荘市の学校の校長先生が定年になったら勤めるところの一つらしいのです。今度の人は元由利町(今は由利本荘市）の方で、そこの小学校の校長先生だったとのことです。子供の教育のことや本荘の歴史について話していたら、ずい分時間が早く過ぎてしまい、散歩はできませんでした。駅へ戻って、軽く昼食を済ませてから、秋田へ向かいました。
2008年06月28日
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夜は近くのラーメン屋さんへ
数年前、本荘にいたときには、ここでシュウマイと炊き込みご飯ばかり食べていました。これがかなり気に入っていました。今回は、ギョーザライスにしました。これも美味しかったです。ここのご主人とはあまり親しく話したことはなかったのですが、今回はギョーザも、店で出す湧き水も美味しかったので、ひとっきりおしゃべりをしてきました。数年前はあまり話もしなかったのに、私がシューマイばかり食べていたのを覚えていてくれました。ホテルに帰って、早目に寝てしまいました。
2008年06月27日
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今日は亀田へ・・・・温泉にも入った・・・そして午後は休み
朝は、朝市で買ったおにぎり、ミズの漬物、サクランボでした。バスで亀田へ。バス停では、行くたびに会う人とまた一緒、挨拶し、ちょっとお話をしました。ここ何年か同じバスに乗るので、知り合いになりました。でも、亀田まで行くお客は私一人です。結局、お客は延べ四人しかいませんでした。これでは、このバスも廃線になりそうです。亀田に着いて、友達がいる歴史資料館へ行くと、お休みだとのこと。まだ、前回の怪我が完全に治っていないらしいのです。お土産を渡してくれと頼むと、自分で行ってみたらどうだと、電話をしてくれて、ちょっとだけ会いに行ってきました。少しだけ話してきました。怪我は大腿骨の付け根近くの骨折で、まだ階段を上がったりするのは大変で、史料館はやめたそうです。どうしても必要なときだけは行っているそうです。その後、史料館の前の温泉に入り、気持がよくなったのですが、残念なことにここでは入浴後の牛乳が飲めないのです。仕方なく、斜め前の天鷺城の売店へ行ったのですが、ここにもおいてありませんでした。代わりに野菜ジュースを飲みながら、売店の人としゃべっていたら、ここのところ、天鷺城の中で「ゼンマイ織」の実演と説明をているＹさん（開発者でもある）と会っていないことを思い出しました。聞いてもらったら、今日は来ているとのことで、中へ入って、ちょっとの間お話してきました。それから大急ぎでバス停へ行って、本荘行きのバスに乗って帰ってきました。午後はホテルでゆっくりしました。こちらへ来て初めて休んだような気がしました。
2008年06月27日
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今日は朝から忙しい・・・・朝昼と友達と食事
朝７時から、友達と朝食でした。ゆっくりと話しながら食べて、私は少し散歩をしようと思っていると言ったら、この友達が一緒に行ってくれることになり、割と静かなところを歩くことができました。この人は７０を過ぎているのに健脚で、私は敵わないと思います。散歩が終わって、友達と別れると同時に、知っている人に声をかけられてしまいました。本荘では、こういうことは珍しくないのです。この人は画家で、目で見たものを書くのではなく、頭に浮かんだものを書くのだそうです。五年前からの知り合いです。たまたま、直ぐそばの喫茶店に自分の絵があるから見ませんかと誘われました。私は30分後に県立大の先生二人と食事をする約束があったのですが、15分ということで、その喫茶店でお茶をご馳走になりながら、絵の話などをしているうちに15分経ってしまいました。大急ぎで、約束のカレー屋さんへ急ぎました。本当は、お菓子屋さんに寄って、そこの名物の麩まんじゅうを買うつもりだったのですが、仕方なく、途中で他の店で聞いてみました。そうしたら、そこに麩まんじゅうがあったので、それを買って、ぎりぎりに間に合いました。つづくつづく
2008年06月26日
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今日は大忙し・・・・夜までも
朝市と本屋さんが終わった時点で、まだ11時前です。これからまだ矢島へ行き、るんるんさんとゆっくりしゃべってから、また本荘へ戻り、Ｓ１さんも一緒に食事です。八郎潟の駅へバスで戻ると、奥羽本線が遅れているとのこと。私は、一時前に本荘へ戻り、直ぐに鳥海高原鉄道に乗り換えて、矢島へ行くことになっているのです。幸い、秋田で待ち時間があったので、奥羽本線の遅れは問題なしで、矢島へ時間通りに向かうことができました。昼はお店に入ってご飯を食べている暇がないので、五城目の新鮮なトウモロコシの茹でたものを二本、本荘から矢島までの電車の中で食べました。これがまた美味しくて、凄い勢いで食べてしまいました。矢島に着いて、いつものように、るんるんさんとあれやこれやと話し、ほどよいところで、本荘のリラさん（喫茶店）へ行って、お店のＷさんも交えてまたおしゃべりをしました。そして、今日最後の予定である食事に行きました。ここは、私の好きな日本料理屋さんで、Ｓ１さんも一緒で、よくしゃべり、よく食べました。ここは、食べ物の素材の味を生かすように料理してくれるお店で私は気に入っているのです。今回も、大いに満足し、二人の友達と別れてホテルへ戻ると九時ごろになっていたでしょうか。朝、五時半ごろに朝市（これは本荘の）へ行ってからずっと、本当に忙しかったです。こちらに着いて、まだ一日ちょっとなのに、もう疲れ気味でした。
2008年06月25日
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朝市通りの古書店
山菜屋さんでミズタタキのことについて教わったり、話し合ったりした後、朝市を全部見てまわりました。今回は、イサザというものを見つけました。なんだか聞いたら、「アメ」と言われました。それを塩と麹に漬けたものだそうです。食べさせてもらう（自分で指を突っ込ませてくれました）と、味はとてもいい（熱いご飯に合うとのこと）のですが、臭いのです。クサヤ系の臭いです。まだ理解できないでいると、隣の入れ物の中を指差して、これが「アメ」だとのことです。よく見ると、小さいエビのようです。ここで、やっと分かりました！「アミ」です！うれしくなって、一袋買ってしまいました。朝市通りを一往復してから、初めの山菜屋さんの向かい側の本屋さんに寄りました。もう知り合いなので、いろいろ楽しく話をしていたら、あっという間に帰る時間になってしまって、バス停へ急いで帰りました。本屋さんのご好意で、後で菅江真澄の資料を送っていただけることになりました。本屋さんを飛び出したところで、向かい側の山菜屋さんから、「まだいたの？」という声がかかり、うれしくなりました。
2008年06月25日
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ミズタタキ
ミズ（ウワバミソウ）はなににしても美味しいのですが、しゃきしゃきとともに、ねばねばもあります。そういうところから、ミズの茎を細かく刻んで、叩いてトロロ状にし、味噌と和えたものをミズタタキと呼んで、特に、五城目では、皆さんが喜んで食べているようです。ここのタタキの特徴は、山椒の実を使うことです。他の場所では、ショウガを使ったり、味噌だけだったりです。今は、青い山椒の実が出始めた頃で、ミズも沢山出ていました。私の知り合いの山菜屋さんへ行くと、ミズと山椒を買っていくよう勧めてくれました。それから、お店で作ったものもありました。今日始めて知ったのですが、タタキミズというのがあるのだそうです。普通のミズより短めなのですが、茎全部を使う（普通は根に近いところだけを使う）と、モチモチ感が違うのだそうです。そのミズタタキを試食して、本荘の友達へのお土産として、タタキミズも、山椒も、お店のミズタタキも買ってしまいました。つづく
2008年06月25日
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五城目
私が泊まっている本荘から、羽越線と奥州本線で八郎潟まで約一時間半、それからバスで十分ほどで行かれます。秋田市より北にあります。私の目的は、五百年の歴史のある朝市と一軒の古書店です。朝市は、０、２，５，７のつく日にあります。私は朝市が好きで、ここへ来ると、いつも楽しい時間を過ごすことができます。今日の私の狙いは山椒の実です。こちらでも、もうそろそろ売り始める頃ではないかと思ったのでした。こちらは、ミズという山菜（ウワバミソウ）を沢山食べるところです。特に、ミズタタキというものが好まれてます。
2008年06月25日
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本荘に着いて
本荘は涼しい!駅を出ると気持がよかったです。まず友達の S1さんに、行くと電話してから、最近新装したMショッピングセンターへ行きました。そこで花を買ってから、S1さんのお母さんの家へ行きました。一ヶ月ほど前に亡くなったお母さんのお参りをしました。それから、お母さんを偲んで、いろいろ話しました。五年あまり前に知り合いになってから仲良しだったので、これから本荘に来てもさみしいです。
2008年06月24日
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今晩は秋田です
１６時前には本荘（今は由利本荘市）に着いて、友達のところへ向かっていることでしょう。第一に、約一ヶ月前に亡くなった友達のお参りに行くつもりです。つづく
2008年06月24日
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旬のものがあればいい！
私はキュウリもトマトも旬のものだけでいいです。温室のものはあまり美味しいと思いません。温室を作ったり、温めたりするために、エネルギーもお金も沢山使うのです。そして、その分高いのです。それなのに、味と香りは落ちるのです。つづく
2008年06月23日
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鮎の解禁日に釣り人が来ない！
高知のある山村のことだそうです（東京新聞６月２３日朝刊）。去年二人しか来なかったらしいです。春になって上ってくる鮎の数が少ないのです。昔は、この村では、解禁日がちょっとしたお祭りみたいだったのです。皆が集まって、取れたての鮎を塩焼きして、宴会をする、外に出た人達も、その日には家族を連れて帰ってきて、楽しい一日であったそうです。私達は、多分、自分達人間のせいで、大事なものをだんだん失っていくようですね。つづく
2008年06月23日
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5.2 Mo/Si界面まとめ（つづき２）
次節では、最先端プロセス技術への挑戦（次章：第６章）への最後の準備となる研究結果について説明します。その内容は、Si酸化膜の化合状態の評価に関するものです。それも、これまでの私のやり方では評価できなかったような微妙な変化についてのものです。しかし、上記最先端技術開発にエスカを利用していく過程でも、まだエスカでは不十分なところがいろいろありました。この開発を進行させながら、エスカの測定技術も平行して向上させて、三つの研究で新しい進展を見ることができました。これらについては、章を改めて説明していきます（第７、８章）。第６章 タングステン・ゲート電極技術の開発へのエスカの応用 －果たして実用化に持っていけるか？－第７章 薄膜の密着性の研究 －薄膜プロセス技術の基礎ー第８章 微量不純物や欠陥の検出 －エスカでは無理なはずですがーつづく
2008年06月23日
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5.2 Mo/S界面iまとめ（つづき1）
一方、半導体プロセスでの各種問題において、酸素が関係していることが多いことも分かってきました。今回、最初に、研究所で「うまく行った」思ったのは、酸素のお陰でした。そして、工場へ行って、「うまく行かなかった」のも、酸素のお陰（制御できなかった）でした。そして、最終的な答えも酸素の制御をうまく行くようにしたことでした。このように、良きにつけ、悪しきにつけ、酸素が絡んでいることが多いのです。前節、Al/Si界面の問題では、酸素の影響を全部なくせたとすると、あの素子（ショットキ・バリア・ダイオード）はできなくなってしまいます。界面でAlとSiが反応して、素子にはならなくなってしまいます。これは笑い話なのですが、当時、アメリカの、もっと良い蒸着装置を持っていた会社では、SiとAlの間に反応を防ぐ層を挟んで、この素子を作っていました。ところが、私のいた会社では、偶々、界面のSiが酸化したお陰で、この反応防止層なしで、うまく行っていたのでした。この会社の研究者が来たときに、この話になって、先方は私達の話を聞き、びっくりしていました。ちょうど私がなぜかを調べた後だったので、私は、少し得意になって、酸素の制御ができることを「自慢」したのでした。実際に、これだけ同じように蒸着できるようにした工場の技術者の力は大したものであると思いました。つづく
2008年06月23日
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キャベツも んめえ！
秋田の矢島のです。キャベツを切って、ちょうど散歩で摘んだウコギの新芽いくつかと薄荷の葉っぱ一枚と一緒に塩、挽き立ての胡椒とマヨネーズ（少なめ）で和えました。感動ものでした！キャベツの味！香り！苦さ！つづく
2008年06月23日
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24日の日記
本当は24日の日記です。S1さんのお母さんの家で友達のKさんに電話したら留守電でした。夕食は Gレストランへ行くつもりでお母さんの家を出たら、Kさんから電話です。どうも以心伝心だったらしく、私の留守電を知らずに電話をくれたのでした。Kさんも今夜都合がよかったので、Kさんと一緒に食事ということになりました。Gのご主人も奥さんもKさんの友達なので、とても話は弾むし、ご飯も美味しかったです。本荘に着いて早々、少ししゃべり疲れという感じでした。
2008年06月22日
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いよいよ明後日は秋田
母の状態も悪くなさそうなので、秋田へ行きます。今回は、あまり動き回りたくなかったのですが、また大勢の人達と会うことになりそうで、秋田と八郎潟（別のときに）へ足を延ばすことになりました。往きは、新潟回りで帰りはまだ考え中です。松島と仙台へは行く予定です。亡くなった友達のお参りもします。つづく
2008年06月22日
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5.2のまとめ
この研究は、半導体関係の問題解決のためにエスカがとても役に立つということを示したものでした。そして、私の問題解決の考え方の一部としても、エスカの「チェック機能」としての威力を発揮することができました。即ち、Mo/Si界面のエスカ分析により、電極形成プロセスの良し悪しの判定だけでなく、悪いときの原因を明らかにするための証拠を得ることもできました。確かな事実により、どのような対策が可能かを示せたのです。つづく
2008年06月22日
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古文書の解読は正に「問題解決」！
面白い！ちょっとしたことがきっかけで、古文書の解読に魅せられてしまいました。そして、あるとき、「解読の過程」が、理工学的研究を行なうときの考えの進め方にとても参考になることに気づいたのでした。つづく
2008年06月22日
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また美味しいもの！
今度は北海道のアスパラガスです。これは女房の友達からのおすそ分けです。これも本当に美味しい！ここのところ野菜ばかり食べているようです。つづく
2008年06月22日
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湯川・朝永奨励賞
京都大学で若手研究者向けに創設された湯川・朝永奨励賞の第1回受賞者の一人に、京大大学院準教授の勝又直也さんが決まったそうです。びっくりしたのは、受賞の対象の研究が中世ヘブライ文学（5－10世紀の宗教的な詩）に関するもので、科研費（国からの補助金）も5年で1億円も出たそうです（テーマは「ユダヤ教の人間観」）。驚いたのは、湯川先生も朝永先生も有名な物理学者だからです。でも、このような研究をよく選んだなと感心してしまいました。勝又先生は、中世（日本にしたら古代に近いような気がします）ヘブライ語の解読について、「あらゆる分野の知識を総動員して謎解きをする面白さがある」と言っています。私にはこれがよく分かります。本当にそうだと思います。私が日本の昔の手書きの文章を解読しようとするとき、全く同じように感じるからです。つづく
2008年06月21日
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今朝もワラビだ！
夕べからアク抜きをしたワラビをたっぷりいただきました。少ししゃきっとし、少し苦く、ぬるぬるしていました。まず生姜醤油で、それからポン酢醤油で食べました。それから、タタキ（味噌、生姜と山椒入りラー油で味付け）も。全て、んめえ！つづく
2008年06月21日
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夕べはご馳走だ！
秋田からワラビその他野菜などを送っていただきました。夕べは新ジャガ、チンゲン菜とインゲンを味わいました。新ジャガには感動でした。塩だけで沢山食べてしまいました。ご飯は結局食べませんでした。チンゲン菜とインゲンは炒め物で、こちらも最高でした。なぜこんなに美味しいのでしょうか。土、水と空気が違うのでしょうか。
2008年06月21日
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サラダが美味！
昨日はとても新鮮なサラダ菜をいただきました。ちぎって、オリーブ油、レモン汁、塩と挽き立ての胡椒で和えました。夕食の中で一番美味しかったです。新鮮だと味があるのですね。つづく
2008年06月20日
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せいてはことを仕損じる
やってしまった！諺に従え！実は、今日は朝早く出かける前に、インターネットでちょっとめんどくさい注文書に書き入れて送ってしまいたかったのです。注文の日付が今日でなければならなかったので、全部書き込んで、直ぐに送れるようにして、夕べは寝たのでした。そして、今朝、「注文」をクリックしたら、なんと、「時間切れなので、初めからやり直して下さい。」という指示が出てきたのです！私は、泣く泣く、もう1回注文書に書き込み、注文したら、夕べ書き込んだものが注文書に残っているではありませんか！そんなことどこにも出ていませんでした！そこで、また、半分を消して、やっと、なんとか注文ができたのでした。急いでいなかったら、怒りのメールを出すところだったのですが、時間がないので出かけてしまいました。悔しい！つづく
2008年06月20日
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大豆が美味しい！
大豆を茹でただけで美味しいのです。いい塩を振っただけで最高です。よくかむと甘くなります。サラダに混ぜても美味しいです。呉汁を作ろうとして、茹でた状態で味見をしたら美味しかったので、そのままで食べることにしました。つづく
2008年06月19日
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<どうしたらよいか？>
Mo/polySi界面でのpolySiの酸化を抑えるにはどうしたらいいのでしょうか。一つには、Mo中の酸素を減らすことですが、そうすると、今度は、他の反応が起きる、つまり、MoとpolySiが反応し易くなります。 Mo + 2 Si → MoSi2Moより高抵抗になるのが許されるなら、これでもいいのですが、この反応が起きると、MoSi2形成時に体積収縮（＞20％；縮む）があり、剥がれやすくなります。また、酸素の量を制御して、酸化膜厚を2 nm 以下に制御できればいいのですが（この状態を当初研究所で作ったと思われます）、再現性に問題があります。もう一つは、Mo中に酸素があっても、下のpolySiと反応しなければいいのです。しかし、この場合も、MoとpolySiの反応は避けたいです。ですから、前もって、MoにSiを加えておけばいいのです。そして、安定性を考えると、MoSi2にするのがいいのです。以上のことを考えて、結局、MoSi2構造の電極にすることにより、今回の問題は解決して、１ Mb(メガビット)の一つ前の段階の記憶容量の記憶素子に使われました。つづく
2008年06月19日
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＜酸素はどこから？＞・・・5.2(7)
そして、1000℃、N2中加熱時に、酸化したMoと下のpolySiとの反応がさらに進んで、Si酸化膜厚が 1.6 nm から 8.3 nm まで増えるのです。一方、Moの方は、図5.3に示すように、酸化していたMoが、Si存在下で加熱される（1000℃、N2中）と、酸化Moが還元されて（元の状態に戻る）、金属Moになります（一番下とその上のスペクトル）。 但し、同じ雰囲気中でもSiがないと、雰囲気中の１－３ppmの不純物酸素によって酸化されてしまいます（一番上）。 図5.3 加熱中のSiの存在と雰囲気がMoに与える影響まとめると、polySiは、蒸着初期（シャッタが開く前）にpolySi上に堆積される酸化したMoの酸素によって酸化されるということが分かりました。つづく
2008年06月18日
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＜酸素はどこから？＞・・・5.2(6)
＜酸素はどこから？＞最初の可能性、加熱雰囲気の影響を調べるために、高真空中（10^-5 Pa:10の-5乗パスカルの圧力）の加熱をしてみました。しかし、N2中（不純物として酸素を含む）加熱の場合とSi酸化膜厚は変わりませんでした。この結果から、酸素は、蒸着したMoに含まれていたと考えられました。そこで、その確認のために、polySi上にMoを蒸着していく過程をエスカで「観察」しました。それには、Mo蒸着工程のいろいろな段階で、試料を抜き取って、試料をエスカで測定しました。測定は、同じ試料を工程を追って測定していったのではありません。それをやると、実際の試料と比べ、空気に触れる時間が長くなってしまったり、蒸着装置（真空）からし量を取り出すと空気に触れて酸化が進んでしまったり、吸着物が増えてしまったりするからです。毎回、新しい試料を、決まったやり方で、ある段階まで進めたものを抜き取って、エスカで測定しました。（工場で試料を抜き取ってから15分以内に測定開始）これらの実験の結果を、図5.1（polySi表面）と図5.2（Mo表面）を使って説明します。 図5.1 Mo蒸着と加熱に伴うpolySi表面状態の変化まず、図5.1の下の二つのスペクトルで示す、polySiの前処理（ふっ酸）から状態装置内での加熱（350℃）の段階では、酸化状態の変化はほとんどありません。次に、Mo蒸着（スパッタ法）の準備として、シャッタを閉めたままで、予備スパッタを行ないます（初期汚染を除き、一定速度で蒸着できるようにするため）。この段階では、MoはpolySi上には蒸着されていないはずなのですが、図5.2の一番下のスペクトル（SEV. nm: Moの厚さが数nmということ)に示すように、Alの場合と同じで(前節）、MoがpolySi表面を覆っていました。そして、シャッタを開けて直ぐ（10 nm 厚）がその上のスペクトルで、一番上が150 nm 厚のものです。これらのスペクトルで、一番下のものが上二つと明らかに違っています。Moのスペクトルは二つのピークからなっています。酸化すると二つのピークが一緒に低運動エネルギー側に動きます。一番下のスペクトルは、酸化して二つのピークが動いて、酸化したMoの高エネルギー側のピークが、酸化していない金属Moピークの低エネルギー側のピークと重なっている状態を示しています。ここで、高エネルギー側の二つのピークの比ＭはMoの酸化状態の目安となります。全く酸化されてないと考えられる状態で 0.64 ですので、150 nm 厚ではほんのちょっと酸化しているということに。なりますつまり、界面から 10 nm 程度までの領域ではMoが酸化していました。そして、この段階で（蒸着しただけで）、polySiがある程度（ 1.6 nm )既に酸化していました。polySiの厚さを 150 nm にしても、酸化膜の厚さは変わりませんが、1000℃で加熱すると、8.3 nm にまで酸化が進みました。 図5.2 Mo蒸着に伴うMo表面状態の変化つづく
2008年06月18日
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＜予想の確認＞・・5.2(5)
＜予想の確認＞不良状況からの予想の確認をまず行ないました。そのために、Moを150 nm polySi上に蒸着して、それを1000℃のN2（酸素を1－3 ppm 含む窒素）中で１時間加熱しました。そして、リン酸系のエッチング液で上のMoを除去しました。そのとき面白かったのは、加熱した試料をそのままエッチング液に漬けてもMoは溶けませんでした。表面をエスカで調べると、Moの他に酸化したSiが検出されました。表面がSi酸化膜で覆われているのではないかと考え、ふっ酸（HF)に漬けてから、Moエッチング液に漬けると、Moは容易に除去できました。なお、加熱する前の表面にはSi酸化膜はありませんでした。Moを除去して、加熱前後のpolySi表面をエスカで調べると、 加熱前では、厚さ1.6 nm のSi酸化膜が、 加熱後では、厚さ8.0 nm になっていました。これで分かったのは、 まず、Moを蒸着しただけでpolySiが若干酸化している（蒸着なしなら0.6 nm 程度）こと、 それから、加熱すると相当酸化が進むことです。この酸素はどこから来るものでしょうか。１）Mo中に酸素か水が含まれていたのか、２）加熱雰囲気中の酸素が界面まで入っていったのか、の二つの可能性が考えられます。
2008年06月18日
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ユスラウメ酒の香りが
なんとも言えないのです。杏仁に似た香りです。今年漬けたユスラウメ酒も美味しくなりました。夕べは、女房と二人で感激して飲みました。生のときにはこのような香りは感じないのですが、お酒に漬けるといい香りになります。種から染み出してくるのでしょうか。つづく
2008年06月18日
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名人の言葉
宇野千代：「宇野千代聞書集」、平凡社、（2002). の中の「人形師天狗屋久吉」を読みました。四国の人形浄瑠璃の人形作りの名人（当時８０才ぐらい）の話を宇野千代さんが聞いて文にしたものです。彼女は「まんずやってみれ！」そのもののような人だったらしく、多分、この名人が作った人形を見て、感動し、直ぐに会いに行ったのではないかと思います。名人の言葉をいくつか並べてみましょう。「世の中、ここでいいと思ったら、お終い。」「舞台の上で生きていると見えるような人形を作る。」（そのことだけに心を注いできた。）「仕事がようできたと思うまでにはまだいっていない。」「まあよくうつると思うくらい」「心で思って口では言えないことが沢山ある。」「利口そうなのができるか、根性悪そうなのができるか、というようなことを日夜考えている。」「口では言えないが、わが手で掘っているという覚えがある。」「神信心でもするような素直な気持になり、人形の役の心になってみる。」「２０年前作ったのと寸分違わないように作れる。（しかし、違う。）人の目にはどう違うか分からないが、私の心だけには分かる。」「死ぬる間際まで稽古をつむのが務め。」などです。宇野千代さんの感想：「仕事をしてゐる人は その仕事によってほんたうのことを知り、ほんたうのことを考える。」この本の中に「おはん」も入っています。つづく
2008年06月17日
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ＭＯＳ素子とは？ 5.2(3.5)
記憶素子に使うものです。Ｍ(Metal)は電極、Ｏ(Oxide)は酸化物で、Ｓ(Semiconductor)は半導体のことです。三層構造の素子です。具体的には、ＯはSiO2で、Ｓはシリコン(Si)です。この素子では、電極Ｍ（従来はpolySi)とＳ（Si）にかける電圧によって、SiO2の直ぐ下をSiO2面に平行に流れる電流の大きさを制御します。
2008年06月17日
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＜きっかけ＞ 5.2 Mo/Si 界面の評価 (4)
＜きっかけ＞わが社の研究所でも、ＭＯＳ素子用の電極として、比抵抗ρの低い材料の使用を検討を始めました。そのために、Mo/polySi構造の電極を考えました。SiO2に接触する材料は従来と同じpolySiで、上にあるMoのおかげで電気抵抗が低くなるという都合の良いものでした（もしできれば）。そして、なんとかできそうだという感触を得て、工場と一緒になって本格的に検討を始めました。ところが、大きな問題が発生してしまいました。調べて分かったことは、１）polySi上にMoを蒸着した（スパッタ法）だけの段階ではMo/polySi間の電流は流れ易い。２）しかし、素子形成プロセス中に1000℃で窒素（N2)中1時間の加熱により、電気抵抗が100平方μm当たり１万から100万Ωにもなってしまう。ということです。これでは、電極として使えません。そして、私に声がかかったのです。このことがきっかけで、私が半導体素子そのものの研究に、それから少しずつ関わっていくようになってしまったのでした。上記の不良の症状を聞いて、わたしにはピンときたのでした。前回のAl/Si界面の研究のことです。このときは、SiO2が若干厚くなっただけでしたが、今回は、もっとはっきりした結果です。材料（MoとpolySi）の性質からも、そのようなことが起こる可能性が考えられました。即ち、Mo蒸着の初期の段階に、Ｏ（酸素）がMoに含まれていれば、Siの酸化は十分考えられるということです。 2 MoOx + x Si → x SiO2 + 2 Moのような反応です。つまり、Alの場合とは違い、Siの酸化物はMoのそれより安定（SiとＯの方が結合し易い）なので、加熱すれば、当然、上式で、反応は左から右へ進むはずです。
2008年06月17日
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ＣＯ２減に貢献？
ここのところ、毎日天気がよく、もう夏みたいです。昨日も熊谷では３０℃でした。我が家の２階もほぼ同じになるはずでしたが（去年はそうでした）、今年は少し温度が低いのです。昨日は２８℃でした。これは、去年、我が家の屋根に塗った塗料のお陰らしいのです。まだ、１０回ぐらいしか比べていませんが、熊谷と同じ（涼しいとき）か低め（暑いとき）になっています。これまでの観測では、熊谷との温度差は０－２℃です。クーラーは、まだ使っていませんし、今年は掃除もしてもらいました。それから、我が家の屋根には太陽電池もついています。これは３年くらい前からですか。これで、温暖化を少しでも抑えるのに寄与しているのだと思いたいのですが、実際はどうなのでしょうか。お金がかかっているのです。私自身が頭と身体を使った分は除いても、つまり、上記のことをやるためには沢山のエネルギーが消費されているのです。また、太陽電池にしたときには、まだ使える設備を捨てているのです。全てを考えると、省エネルギーになっているのかどうか分かりません。結局は、豊かな生活をしている人間がもっとつつましい生活をする以外にないように思えます。自動車になるべく乗らない。ジムに行くのを止める。移動のためにはできるかぎり歩く。食べ過ぎないで、残さない。多少の不便は我慢する。なんでも無駄にしない。買ったものはできるだけ長く使う。など、など。でも、人間の自由意志に任せたら、だめでしょうね。しかし、石油の生産がもっと減らせばいいのです。自動車も、ガソリンも、全て高くなって、いやおうなしに、つつましくならざるを得ないでしょう。
2008年06月17日
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餃子も んめえ！
我が家の餃子は、野菜たっぷり、ニンニクなし、ニラ、生姜入りです。今日は、タレに、柚子ポン酢醤油、沖縄ラー油と山椒を使いました。秋田の純米酒（雪中保存）を飲みながら、つい沢山食べてしまいました。食後はグレープフルーツとウーロン茶でした。後、お腹の気持がいいです。つづく
2008年06月16日
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コシアブラとタケノコが美味！
昼には、うどんを食べるときに、女房が天ぷらを作ってくれました。先週女房が友達と群馬で採ってきたものです。ほぼ一週間経ってしまいましたが、なんとか食べられました。コシアブラの香りは十分ありました。ここのコシアブラの香りは特にいいように思えます。また、背丈のとても低いものの葉っぱの出始めで、大きいものと比べ苦味が少ないのです。ゆがいただけでも美味しいです。生でも食べられるくらいです。どちらもサラダに使えます。つづく
2008年06月16日
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最先端（当時）の素子開発に加わる 5.2(3)
これまでは従来技術の改良の研究でしたが、少しずつ、最先端の超高集積回路（ＵＬＳＩ：Ultra-large Scale Integration)に関係した仕事が増えてきました。その当時は、ちょうど１メガビット（Mb)の記憶容量の素子（DRAM:Dynamic Random Access Memory)の開発が始まる少し前でした。数平方cmの面積の中にこれだけの情報を記憶しておけるのです。メガというのは百万のことです。ビット(bit)というのは０か１の情報（二進法の）のことです。1980年代にこの素子の開発が始まり、今はギガ（十億）ビットの時代になっているようです。つまり、当時は、個々の素子等の大きさが１ミクロン程度だったのが、今はその十分の一以下になっているのです。この微細化によって、素子に接続する電極・配線に使う材料にとっても大変になるのです。電気抵抗が高くなってしまうのです。そうすると、素子の温度が上がるし、消費電力も高くなります。ということは、従来より、電気を通しやすい材料を使う必要があるということです。長さＬ、断面積Ａの配線の抵抗Ｒは R = ρL/Aと表せます。ここで、ρ（ロー）は比抵抗で、物質の電気の通りにくさを表す数です。高集積化で、Lが長くなったり、Aが小さくなれば、当然、抵抗Rは高くなってしまいます。電極・配線材料には、従来は、多結晶シリコン（polySiと書き、沢山の結晶からなるSi；素子の基板に使うSiは単結晶です；polyは polycrystallineの略）を使っていました。なお、polySiのρは～mΩ・cm程度、Siと金属の化合物（シリサイド）のそれは数10μΩ・cmで、金属だと数μΩ・cmです。（ここで、mは千分の一、μは百万分の一のことです。）このような事情から、当時、polySiに代わる電極・配線材料として、シリサイドや金属を使えるようにしようとする研究が盛んになったのでした。具体的には、上記記憶素子に使うＭＯＳ（Metal-Oxide-Semiconductor)型素子の電極として必要になりました。つづく
2008年06月16日
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エスカの出番 5.2（2）
Mo/Si界面の評価の研究の頃から、当時、半導体の最先端の技術に関わる研究が増えてきました。会社もこの分野に力を入れていましたし、私の方もエスカがだんだん使えるようになり、いろいろな問題解決に必要な「大事な証拠（事実）」を得ることができてきたからです。エスカは、私のほとんど全部の研究で、問題解決に役立つ「チェック機能」の一部として、２０年ぐらいも使い続けたのでした。また、私の、かなり乱暴なエスカの使い方が、前節のAl/Si界面だけでなく、他の界面の研究にも役に立ったのでした。にもつづく
2008年06月16日
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自然が失われていく
私が「出退勤」のときに通る道で、とても気持のいいところがありまっした。１００メートル足らずでしたが、ニセアカシアの並木と何種類かの木々が生えていました。その中にウコギもあって、その芽を採っていました。3年ぐらい前に、道の片側のニセアカシアが切られてしまい、その後、反対側の木々も少しずつ切られて、今年は家が何軒か建ってしまいました。秋田へ行っても、松が枯れてしまっていたり、コシアブラやタラの芽が丸坊主になるように採られてしまっているのを見かけました。また、あまり必要でない高速道路（無料）ができて、かつて私が山菜を採っていたところがなくなってしまいました。私の大好きな、本荘の朝市も、なんとなく人が減っているように感じています。つづく
2008年06月15日
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いよいよ下旬には秋田へ
今回はいつものように気が乗らないのです。秋田の私の大事な友達の一人が亡くなったからかもしれません。しかし、いつも会う友達に連絡を取ると、皆に会えることになってしまいました。今回は秋田市や五城目（こちらは前回も）まで行くことになりました。勿論、南由利原高原へも行きます。ここには、今年でなくなってしまいそうな「ペンション四季」があります。由利本荘の市長さんに反対の手紙を書いたのですが、なにも返事がありません。財政の問題でやむを得ないのかもしれませんが、ここは、由利本荘市でもっとも気分がよくなる場所だと、私は思っています。つづく
2008年06月15日
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自然は思うようにならない
今回の岩手、宮城の地震にはびっくりしました。私が行く川渡温泉は震源地にかなり近かったからです。幸い、そこでは大きな被害はなかったようですが、被害を受けた皆様にはお見舞いを申し上げます。このように災害があると、自然には敵わないことを身を持って体験するのですが、人間は、あらゆる面において、自分達に都合のいいように自然を変えたり、制御したりしようとしているのです。ついこの間も、アメリカで、農作物の受粉用のミツバチの数が大量に減ってしまったことをテレビで報道していました。人間の勝手な行動が大量のミツバチを殺してしまったのです。大切な自然がどんどん減っているのです。私達は、いずれ、その仕返しを受けるのです。温暖化です。公害です。新しい病気も発生するし、人間の頭もおかしくなっていくのです。つづく
2008年06月15日
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5.2 Mo/Si界面の分析(1)
本節では、パソコンとか携帯電話などに使われる記憶素子の使われる記憶素子（いろいろな情報を溜めておく素子）の開発の初期の頃の問題解決例を示します。記憶容量の大きい素子開発の初期の段階の研究です。実験手法は、前節のAl/Si界面の評価とほぼ同じです。ここでは、上の材料（Mo)の蒸着の過程を調べる実験の方をより詳細に説明します。つづく
2008年06月15日
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5.1節に＜もう一言＞
＜もう一言＞本節から、次第に、半導体素子そのものの問題に関連した検討例が多くなります。つまり、これまでより、問題そのものを説明するのが難しくなります。できる限り分かりやすくするつもりなのですが、それでも、理解されない可能性があります。初めにも書きましたが、分からないことがあれば、いつでも質問して下さい。大歓迎です。但し、答えられない場合もあります。そのときは正直にそう言います。また、調べたり、考えたりして分かれば、その結果をお知らせします。分からないことがあるのは恥ずかしいことではありません。堂々と質問して下さい。いただいた質問と私の答え（分からないという答えかもしれませんが）を論文に載せるつもりです。前に書いたことに対する質問でもいいです。つづく
2008年06月14日
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今日もいい天気
論文「私の問題解決の考え方」の5.1節を書いてしまいました。私にしては速いと思いますが、これが一般の読者にどこまで理解していただけるか心配です。しかし、大学院を出た、技術系の人だって、理解できない人は沢山いると思います。一方、小学生でも、ある程度理解してくれる子がいるでしょう。私が話をすれば、多分、大人より子供の方が私の言っていることを理解してくれるでしょう。今日は、東京へ行きますが、5.1節にもうちょっと付け加えられないかを考えてきます。つづく
2008年06月14日
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５．１ Al/Si（アルミニウムとシリコンの）界面状態の評価(5)
半導体工場の問題解決の過程で、「AlがSiを酸化させてしまう」という、面白い現象に出会うことができ、エスカを駆使して、その実態を明らかにしました。また、「まんずやってみれ！」で、いろいろ試した結果、Al/Si界面状態の分析手法も考え出すことができました。この分析法では、既に界面ができている場合には、上の材料を化学的に溶解し（エッチング）、除去するというものです。溶液を選ぶことにより、界面そのものの露出が可能となります。また、界面を作りながらエスカ分析を行なうという方法も使いました。下の材料（Si）の表面処理後から、蒸着装置に入れ、シャッタを開ける前、開けた直後、Alを少しずつ厚くしていくなどの過程で、試料を装置から出して、エスカ分析を行ないました。エスカ分析の結果、この問題においても、Si酸化膜厚は「チェック機能」として使えることが分かりました。この厚さの大小と素子特性（順方向電圧）の変動とを対応付けられました。また、上記の界面分析により、変動を起こす原因も突き止めることができました。参考文献1) 岩田誠一、山本博司、菊地彰、中田健介：「Al/Si界面状態とショットキ・バリア・ダイオード特性との関係」、日本金属学会誌、45（1981), 542-543.2) A. KIkuchi, H. Yamamoto, S. Iwata and T. Ikeda: "Electron transport across aluminum/ultrathin silicon oxide/phosphorus implanted silicon barriers," J. Appl. Phys., 51(1980), 4913-4918.3) A. Kikuchi and S. Iwata:"Effect of Sputter Etching on Aluminum-Silicon Schottky Barrier Diode Characteristics," Jap. J. Appl. Phys., 22(1983), L577-L579.4) 岩田誠一、中田健介、菊地彰：「アルミニウム蒸着時のシリコン基板の酸化」、日本金属学会誌、50(1986), 287-292.
2008年06月13日
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５．１ Al/Si（アルミニウムとシリコンの）界面状態の評価(4)
表5.1に示したように、順方向電圧と(O)/(Si)との相関がえられたのはもっともなことです。スパッタ法でAlを蒸着した場合に、Al/Si界面に形成されるSi酸化膜（電気が流れにくい）が電子線蒸着の場合より厚くなったため、同じ電流を流すために、より高い電圧をかけなければならないと考えられるからです。しかし、ここで、一つ「疑い」が出てきます。「なぜ、Alを蒸着することでSiの酸化が進んでしまうのでしょうか？」このAlにはそんなにO（酸素）が入っていませんし、入っていたとしても、Oは、SiよりAlと結合し易いのです。ですから、 3 SiO2 + 4 Al → 2 Al2O3 + 3 Si のような反応が起きる傾向があります。つまり、Siの酸化が進むのではなく、むしろ、逆に、Si酸化膜が還元される（Si酸化膜が分解してSiになる；薄くなる）傾向が認められるはずなのです。Siの酸化が進む原因は、次のように考えられます。即ち、Siに最初に付着するAlが、金属Alでも、安定なAl2O3でもなく、より不安定なAl(OH)3（Alの水酸化物）のようなものであれば、 4 Al(OH)3 + 3 Si → 3 Si + 2 Al2O3 のような反応で、Siが酸化する可能性があるのです。そして、スパッタで、この不安定なAl化合物の量が多ければ、Si酸化膜が厚くなるを説明できます。実際に、蒸着のいろいろな段階で試料を取り出してエスカで測定する実験を行なった結果、これが実証されました。この研究は工場の問題の解決のために行なったもので、蒸着装置は研究所から歩いて20分ぐらいの工場にあって、エスカは研究所にありました。ですから、私が指定した、いろいろな種類の試料を工場の人が自転車で運んでくれたのでした。そのおかげで、蒸着装置から取り出してから約15分以内に、試料をエスカに入れることができました。一番驚いたのは、シャッタがまだ閉まっているのに、かなりのAlが、それも「酸化した」（Oが沢山付いた）AlがSi表面で検出されたことです。シャッタというのは、初期に蒸発した、汚染の可能性のあるAlが基板のSiに付着するのを防ぐためのものです（カメラのシャッタが光を遮るように）。スパッタ法でない蒸着では、真空中なので、蒸発粒子はほぼ直線で基板（Si）に到達するのですが、スパッタ法では、アルゴン（Ar）ガスを入れるので、蒸発粒子（Al）がArに衝突する可能性があります。そうすると、進む方向が変わることができます。つまり、シャッタの漏れ（回り込み）があり得るのです（実際にあったのです）。さらに、このようなAlの量（シャッタが開いているときよりはるかに少ない）は少ないので、装置内に微量存在する水や酸素とくっつく可能性が高くなります。（大量のAlが基板に向かって飛んでいれば、水や酸素が付着したAlの割合はとても小さくなります。）これで原因も分かって、対策として、蒸着後加熱をしてやると、上記のSi酸化物とAl金属の反応が実際に起きて、Si酸化膜を薄くできました。つづく//
2008年06月13日
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